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Characterization of Plasma-Enhanced CVD Processes: Volume 165

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Libro Rigido
Libro Characterization of Plasma-Enhanced CVD Processes: Volume 165 Gerald LucovskyDale E. IbbotsonDennis W. Hess
Codice Libristo: 02059881
Casa editrice Cambridge University Press, settembre 1990
The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for research...
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The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners.

Informazioni sul libro

Titolo completo Characterization of Plasma-Enhanced CVD Processes: Volume 165
Autore Gerald LucovskyDale E. IbbotsonDennis W. Hess
Lingua Inglese
Rilegatura Libro - Rigido
Data di pubblicazione 1990
Numero di pagine 270
EAN 9781558990531
ISBN 1558990534
Codice Libristo 02059881
Casa editrice Cambridge University Press
Peso 530
Dimensioni 152 x 229 x 16

Categorie

Tecnologia, Ingegneria, Agricoltura, processi industriali > Ingegneria elettronica e delle comunicazioni > Ingegneria elettronica > Dispositivi e materiali elettronici
Tecnologia, Ingegneria, Agricoltura, processi industriali > Ingegneria meccanica e dei materiali > Scienza dei materiali
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